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标号石墨烯研究取得重要进展

日期:2018-01-09 16:23:21    作者:本站    浏览量:38 次

近日,彭海琳教授团队负责的“石墨烯电子材料和透明导电薄膜的标号规则及稳定生产工艺研究”项目取得重要进展,通过设计的第二代卷对卷CVD设备制备得到了米量级的高品质石墨烯薄膜。该方法将工业铜箔以100 毫米/分钟的线速度通过CVD炉,在1小时内可以获得0.2米×6米的石墨烯薄膜。在石墨烯/铜箔成品上每隔1米取点测试,通过光学显微镜和拉曼光谱表征可知石墨烯薄膜基本都是均匀的单层石墨烯,其厚度,畴区,缺陷等材料结构要素都是均匀分布的。该研究成果对建立标号石墨烯透明薄膜的稳定生产工艺与规程、突破高品质石墨烯薄膜制备及其高端应用技术具有重要的意义。

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第二代卷对卷CVD设备制备米量级高品质石墨烯薄膜

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